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Item 01
Descrição: SISTEMA DE DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS POR MAGNETRON SPUTTERING.Características mínimas: Câmara de Vácuo: Construída em aço inoxidável 304 com processamento de parede interna por polimento eletrolítico. Dimensões da câmara: Mínimo de diâmetro de 450mm H500 mm. Abertura por porta frontal e janela de observação de no mínimo 100 mm equipada com obturador (shutter). Porta-Substrato: Sistema com rotação (velocidade ajustável de 1 a 20 rpm), aquecimento integrado ajustável até no mínimo 300°C e sistema de elevação/ajuste de distância de revestimento entre 50 a 120 mm. Localizado no topo da câmara (configuração de sputtering para cima / sputtering upwards).Fontes de Sputtering (Guns): 02 (dois) conjuntos com refrigeração a água, adequados para alvos circulares planos de 3 polegadas (espessura de 3mm a 7mm). Sendo 01 conjunto com magnetron permanente e 01 conjunto com magnetron forte.Equipados com defletores (baffles) pneumáticos individuais e capacidade para co-sputtering. Fontes de Evaporação: 02(duas) fontes de evaporação orgânica com volume de 1 mL, faixa de temperatura de 0 a 500°C e precisão de ±1°C. Fontes de Alimentação (Power Supply): 01 (um) sistema de alimentação por Radiofrequência (RF) de 500W, frequência de 13.56 MHz, com método de casamento de impedância automático (auto-match). 01 (um) sistema de alimentação HIPIMS (Sputtering Magnetron por Impulso de Alta Potência) de 1000W, tensão de pulso de 0-1000V, detecção de corrente de pico (5-300A),frequência de pulso de 50-2000 Hz. Controle de Gás (MFC): Controlador de fluxo de massa (Mass Flow Controller) de 06(seis) vias, calibrado para os gases Argônio (Ar), Oxigênio ($O_2$), Hidrogênio (H2), Hélio (He), Nitrogênio (N2) e Metano(CH4), todos na faixa de 0 a 200 sccm. Válvulas reguladoras do tipo eletromagnética normalmente fechadas. Sistema de Vácuo e Medição: Bomba de palhetas rotativas de duplo estágio (taxa de bombeamento ≥ 4.4 L/s) integrada a uma bomba turbomolecular (taxa de bombeamento ≥1200 L/s, 24000 rpm). Medição de vácuo por medidor composto com faixa operacional de 10-5 Pa a 105 Pa. Inclui válvula gaveta (gate valve) e válvulas eletromagnéticas de alívio e corte.Monitoramento de Espessura: Monitor de espessura de filme de canal único, incluindo sensores/probras individuais para cada alvo, com resolução de espessura mínima de 0,0136 Å (referência Alumínio) e interface de comunicação RS-232/485.Refrigeração e Operação: Chiller de água dedicado com tanque de no mínimo 9L e fluxo de 10 L/min. Sistema operacional controlado por PLC com interface de tela sensível ao toque (touch screen). Equipado com pés niveladores e rodas de transporte.
Quantidade: 01 unidade
Condições de Fornecimento
A proposta deverá ser apresentada em papel timbrado da empresa interessada, contendo obrigatoriamente as seguintes informações:
Razão social, CNPJ e endereço completo da empresa representante, bem como nome e endereço completo do exportador, além de Telefone para contato, E-mail atualizado, Prazo de realização do serviço (em número de dias), Prazo de entrega de material/equipamento, Validade da proposta; Prazo de garantia do item cotado, Forma de pagamento (não trabalhamos com Pagamento Antecipado) e Incoterm (preferencialmente EXW ou FCA).
A proposta deve estar assinada digitalmente, utilizando um dos seguintes meios:
Certificado Digital com token ou Assinatura eletrônica pelo portal Gov.br.
Cronograma da Cotação:
Início do recebimento de propostas: 14/08/2026, Prazo final para envio: até às 17h do dia 20/08/2026
As propostas deverão ser enviadas A/C: Grupo de Compras/Importação – FUNPEC, para os e-mails: 📧 importacao@funpec.br; importacao1@funpec.br; comex@funpec.br.
Operação: FUN 26-144
Informações adicionais:
Telefone: (84) 3092-9200